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韩国EUV光刻技术获重大突破

发布时间:2020-11-22 08:48:02 来源: 作者:

  

11月17日消息,韩国知识产权局(KIPO)公布的统计数据显示,2011-2020年,韩国EUV光刻专利2014年有88项,2018年有55项,2019年则为50项。

  

据报道,以三星为代表的韩国企业通过不断的在研究开发方面投入,在EUV光刻技术上不断缩小与行业领先企业之间的差距。近期,三星正式推出的Exynos1080芯片,背后就有对EUV光刻机技术突破的因素。

  

Exynos1080芯片是三星首款基于5nm工艺制造的手机SoC芯片。

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